氧化炉

 氧化炉     |      2019-07-22 19:23
   

一、设备简介
氧化炉是用于半导体加工中在高温环境下对所加工器件进行氧化工艺的一种高温热处理设备,广泛用于集成电路、分立器件、太阳能光伏等行业。

二、主要技术指标(全部指标可定制)
1、外型形式:卧式单管
2、
工艺管:GE,配石英舟、石英帽等
3、热电偶:S型 
4、加热炉管有效口径:Φ240mm
5、等温区长度:200-800mm

6、最高工作温度:1280℃
7、等温区精度:400℃--600℃ ±1℃
                              600℃--1280℃ ±0.5℃ 
8、单点温度稳定性:400℃-600℃ ±1
                                      600℃-1280℃ ±0.5℃ 
9、 最大可控升温速度:15℃/min

10、控温仪表:原装进口,日本品牌高精度控温系统
11、最大升温功率:26KW/管
12、保温功率:13KW/管
13、气路系统:氮气+氧气,带湿氮发生器(含液位自动补水装置)  
14、流量计:质量流量计
15、气路系统气密性:1×10-7Pa·m3/S

16、气路管件:原装进口,长期使用不生锈
17、电源:三相五线、380V、50Hz