低压真空硒化炉

 硒化炉     |      2019-07-22 19:23


一、设备简介
真空硒化炉,又称:低压硒化炉、太阳能硒化炉等,主要用于薄膜太阳能电池的硒化处理、氮化硅镀膜、陶瓷电容器(MLCC)气氛烧结等工艺。本设备具有温度均匀、控制稳定、温区间温度扰动小、升温速度快等特点,是理想的科研设备。
 
二、主要技术参数(全部指标可定制)
1、外型形式:台式,单片基片
2、加热器形式:固定式加热器
3、外形参考尺寸:1600*700*1200mm
4、炉膛材质:优质气炼石英管
5、加热元件:优质电阻丝
6、设计温度:1000℃
7、双恒温区:硒源区:200mm,硒化区400mm(恒温区内温差±1℃)
8、控制温区点数:石英管外4个测温点,石英管内2个测温点
9、控温精度:±1℃
10、硒化恒温区精度:±1℃;
11、硒源恒温区精度:±2℃
12、温控表:日本岛电,32段可编程序
13、最大升温速率:15℃/Min,升温范围:1-15℃/Min可调;
14、最大降温速率:5℃/Min,降温范围:1-5℃/Min可调
15、温控表:日本岛电,32段可编程序
16、控制方式:移项触发
17、真空系统 :分子泵+干泵
18、真空测量量程:1.0X10-5Pa—1.03X105Pa
19、气路:两路,浮子流量计控制气体流量
20、电源:三相五线制,AC380V, 50Hz