MOCVD真空烤盘炉

 烤盘炉     |      2019-07-22 19:23


一、设备简介
MOCVD真空烤盘炉,也称:真空烤盘炉或CVD烤盘炉,是LED 制造行业的一种新型的真空设备,与
MOCVD设备配套使用,炉内抽真空,被处理工件放置在炉膛内,采用加热反应气体的方式进行干式清洗(清洗气体:N2,HCL)。主要用于有效清除 MOCVD 承受器(SiC 涂层石墨盘或石英盘)上的氮化镓和氮化铝等,可达到有效清洁处理,提高产品质量的目的。本设备具有:关键部件进口、自动化程度高、温度均匀、控制稳定等特点,是理想的科研及生产设备。
 
二、主要技术指标(全部指标可定制)
1、
外型形式:单管卧式
2、加热器形式:固定式加热器
3、最高工作温度:1250℃
4、持续工作温度:1200℃
5、真空室尺寸:Φ300*600mm
6、加热元件:瑞典康泰尔电阻丝
7、真空室材质:高纯石英
8、反射板:产品与炉口之间有数层反射板,以减少高温对炉口的热辐射。
9、气路:H2,N2,Cl2,HCL 可选
10、流量计:质量流量计
11、真空系统:旋片真空泵
12、极限真空度:1。0*10-1Pa
13、最大充气正压:10KPa,系统具有恒压功能
14、温控系统:日本进口温控仪
15、控制方式:调功调压
16、冷却方式:水冷+风冷
17、操作方式:手、自动两种操作方式
18、报警及保护:系统设有超温报警及保护、断偶报警及保护、真空系统阀门互锁保护、缺水报警及保护